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钼靶材是一种用于溅射镀膜工艺的高质量金属资料,由于钼的高熔点和热不变性,钼靶材在高温溅射工艺中阐发优质,拥有卓越的机能和宽泛的用处。9091美高梅钼靶材拥有很高的化学纯度以确保薄膜沉积过程中的高质量和靠得住性;还占有均匀的微观结构,有助于产生均匀、不变的薄膜。钼靶材被宽泛利用于半导体造作中,用于造备导电层、光学薄膜和其他职能性薄膜。在光学领域,钼靶材也可用于造备高反射率镜片、光学涂层和其他光学元件。
品名
钼靶材
成分
Mo
表观
银白
纯度(%)
≥99.95%
相对密度
≥99.9%
规格(mm)
?135×?171×L2700、?125×?151×L2270、W290×L2394×T15、W200×L2650×T18
杂质≤ (ppm)
Fe
Al
Si
Ni
Cu
Cr
Sum
100
50
500
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